電解・生物法による半導体用フォトレジスト原料製造工程廃液の処理 Electrochemical and Biological Treatment of Westewater from Manufacturing Process of a Photoresist Substrate for Semiconductors

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収録刊行物

  • 環境技術 = ENVIRONMENTAL CONSERVATION ENGINEERING

    環境技術 = ENVIRONMENTAL CONSERVATION ENGINEERING 29(3), 207-214, 2000-03-20

    環境技術研究協会

参考文献:  8件中 1-8件 を表示

被引用文献:  1件中 1-1件 を表示

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10013004094
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00046213
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    03889459
  • NDL 記事登録ID
    5308654
  • NDL 雑誌分類
    ZN5(科学技術--建設工学・建設業--都市工学・衛生工学)
  • NDL 請求記号
    Z16-834
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL 
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