固体撮像素子のための低損傷プラズマプロセス : パルス時間変調プラズマとガス種選択による紫外線誘起損傷の低減 Drastically Reduced Dark Current by Pulse-Time-Modulated Plasma and Gas Optimization for Sensitive CCD Image Sensor

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著者

    • 市橋 由成 [他] ICHIHASHI Yoshinari
    • 三洋電機株式会社 技術開発本部 マテリアルデバイス技術開発 センタビジネスユニットアドバンストデバイス部 プロセス技術グループ Sanyo Electric Co., Ltd., Materials and Devices Development Center Business Unit, SoC Devices Department

収録刊行物

  • 映像情報メディア学会技術報告

    映像情報メディア学会技術報告 28(23), 19-22, 2004-03-26

    映像情報メディア学会

参考文献:  3件中 1-3件 を表示

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10013066089
  • NII書誌ID(NCID)
    AN1059086X
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    13426893
  • NDL 記事登録ID
    6919872
  • NDL 雑誌分類
    ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
  • NDL 請求記号
    Z16-1010
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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