半導体用低誘電率層間絶縁膜材料 : 高強度シリカ系絶縁膜材料の開発

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  • 化学と工業 = Chemistry and chemical industry

    化学と工業 = Chemistry and chemical industry 57(7), 742-744, 2004-07-01

    日本化学会

参考文献:  4件中 1-4件 を表示

  • <no title>

    http://public.itrs.net/

    被引用文献13件

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    OHASHI N.

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    被引用文献1件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10013281927
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00037562
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    00227684
  • NDL 記事登録ID
    7020085
  • NDL 雑誌分類
    ZP1(科学技術--化学・化学工業)
  • NDL 請求記号
    Z17-65
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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