テトラメトキシシランからのシリカ微粉の気相合成 Gas-Phase Synthesis of Fine Silica Particles from Tetramethoxysilane

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抄録

半導体産業の発展などから高機能なシリカ製品が注目されている. なかでも微粒シリカの用途は多岐にわたる. 現在の主な製造法では, 多くの問題がある. そこで本研究では, 液相法が主流であるアルコキシシランの加水分解を気相中において行い, 連続合成によりシリカ合成することを想定し, 操作条件が反応速度(粒子生成速度)および生成した粒子性状に与える影響を検討した. 反応条件を変えることで粒子径の制御が可能であることが示された.

Highly efficient silica products are widely used in the semiconductor industries. Generally this type of silica is produced by a liquid-phase method, which entails various limitations. In this communication, we report a method for manufacturing silica in the gaseous phase by hydrolyzing alkoxysilane. The operation conditions of the gaseous-phase reactions during the synthesis of silica were optimized. The influences of temperature, gas flow rate and concentrations on the reaction kinetics (particle production rate) were also investigated. Products were characterized by SEM. Results indicated that the silica particle diameters could be controlled by changing reaction conditions.

収録刊行物

  • 化学工学論文集

    化学工学論文集 30(3), 306-310, 2004-05-20

    公益社団法人 化学工学会

参考文献:  5件中 1-5件 を表示

被引用文献:  1件中 1-1件 を表示

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10013341538
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00037234
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    0386216X
  • NDL 記事登録ID
    6962868
  • NDL 雑誌分類
    ZP5(科学技術--化学・化学工業--化学工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-725
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL  J-STAGE 
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