屈曲構造を持つマイクロ流路における流体挙動とそのシミュレーション  [in Japanese] Simulation of Laminar Flow Behavior in a Microchannel and Its Three-dimensional Visualization  [in Japanese]

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Abstract

マイクロチャネル内の流体は, その低レイノルズ数のために層流が保たれることが広く知られているが, 屈曲構造を持つマイクロチャネルにおける流体挙動はほとんど明らかにされていなかった. ここでは, ヘアピンカーブ構造を持つマイクロチャネル内の2層流体の流体挙動を掴むために, 共焦点蛍光顕微鏡による流体挙動の3次元的直接観察と, 3次元数値流体力学シミュレーションとを行った. これらの結果, 流速が速い場合, カーブにおける慣性力の影響により2層流の界面は大きくゆがみ, 界面面積の増大を生むことが明らかになった. 界面面積の増大は3倍以上にもなることがあることが示された. 界面面積の増大はそれを通した物質拡散を促進し, 化学反応に影響を与える. このことは, マイクロ流路を化学反応場として利用する際には, 流体挙動および混合挙動を把握した上でチャネル構造の設計および作製を行う必要があることを示唆する.

Miniaturized devices referred to as microchannels produce special and outstanding chemical reaction behavior; however their mechanism and their fluidic behavior, which is indispensable to analysis of the mechanism, have not been elucidated. This work performs three-dimensional observation of fluid using confocal fluorescence microscopy and computational fluid dynamics simulation to assess the fluidic behavior in curved microchannels. Results showed that a complicated differential medium interface between aqueous liquid/liquid is produced by the laminar secondary flow at the curve of the microchannel. The interface area increased more than three times over that of the flat simple interface. Density and viscosity of the fluid also affect interface configuration, and the results suggest that only the Reynolds number is insufficient to account for the fluid behavior in curved microchannels. Drastic variation in the interface area increases diffusive mixing: it also shows that the understanding of fluid motion and mixing behavior is necessary to design and manufacture microreactors.

Journal

  • KAGAKU KOGAKU RONBUNSHU

    KAGAKU KOGAKU RONBUNSHU 30(3), 341-345, 2004-05-20

    The Society of Chemical Engineers, Japan

References:  17

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    10013341593
  • NII NACSIS-CAT ID (NCID)
    AN00037234
  • Text Lang
    JPN
  • Article Type
    ART
  • ISSN
    0386216X
  • NDL Article ID
    6962792
  • NDL Source Classification
    ZP5(科学技術--化学・化学工業--化学工学)
  • NDL Call No.
    Z17-725
  • Data Source
    CJP  NDL  J-STAGE 
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