光触媒担持シリカゲルを用いたトリクロロエチレン光分解における吸着量の影響 Effect of Amount of Trichloroethylene Adsorbed on TiO_2/SiO_2 Beads on Photocatalytic Decomposition

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抄録

実験温度303–353K,TCE初期供給濃度50–500ppmのもと酸素雰囲気下における光触媒担持シリカゲル(シリカゲルに担持されたTiO<sub>2</sub>光触媒)を用いたトリクロロエチレン(TCE)の光分解を行い,TCE分解に対するTCE初期吸着量および温度の影響をTCE分解量,分解率,CO<sub>2</sub>,HClの生成率から評価した.<br>反応温度303K一定の条件でTCE初期吸着量がTCE光分解反応に及ぼす影響を検討した結果,効率的な分解に対して最適な吸着量が存在することがわかった.このときの最適吸着量は8.O–15mmolであり,TCE分解率,HCl,CO<sub>2</sub>生成率としてそれぞれ約85,70,60%の値が得られた.また,温度依存性について検討した結果,TCE分解率は温度に依存することなくほぼ一定の値をとったものの,HCl,CO<sub>2</sub>生成率は温度の減少にしたがい増加した.

The effects of the amount of adsorbed trichloroethylene (TCE) and temperature on the photocatalytic decomposition of TCE in an oxygen-based gas were investigated using TiO<sub>2</sub> catalyst supported on silica gel beads (TiO<sub>2</sub>/SiO<sub>2</sub> bead catalyst). Experiments were carried out in the temperature range of 303–353 K and TCE concentration range of 50–500 ppm. The effects were evaluated quantitatively in terms of the decomposition ratio of TCE, defined by the ratio of the decomposed TCE amount to the adsorbed TCE amount, and the fractions of CO<sub>2</sub> and HCI products in the decomposed TCE.<br>From the dependence of the TCE photocatalytic decomposition on the initial amount of adsorbed TCE at a constant temperature of 303 K, the optimum amount of adsorbed TCE on the TiO<sub>2</sub>/SiO<sub>2</sub> catalyst for effective decomposition was found to be 8.0–15 mmol. In this range, the decomposition ratio of TCE, and the fractions of HCl and CO<sub>2</sub> were respectively about 85, 70 and 60 %. As for the effects of reaction temperature on the photocatalytic decomposition, the decomposition ratio of TCE was independent of temperature within experimental error, but the fractions of CO<sub>2</sub> and HCI in the decomposed TCE increased as temperature decreased.

収録刊行物

  • 化学工学論文集

    化学工学論文集 28(5), 528-532, 2002-09-20

    公益社団法人 化学工学会

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10013409442
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00037234
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    0386216X
  • NDL 記事登録ID
    6308971
  • NDL 雑誌分類
    ZP5(科学技術--化学・化学工業--化学工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-725
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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