化学的機械的研磨洗浄 The Cleaning Post Chemical Mechanical Polishing

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収録刊行物

  • 化学工学 = CHEMICAL ENGINEERING OF JAPAN

    化学工学 = CHEMICAL ENGINEERING OF JAPAN 68(3), 145-147, 2004-03-05

    化学工学会

参考文献:  9件中 1-9件 を表示

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    柏木正弘編

    CMPのサイエンス 22, 1997

    被引用文献1件

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    柏木正弘編

    CMPのサイエンス 327, 1997

    被引用文献1件

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    味岡恒夫編

    ULSI製造における汚染の実態 162, 1999

    被引用文献1件

  • <no title>

    辻村学

    ポストCMP洗浄装置, 1999

    被引用文献1件

  • <no title>

    Semiconductor Industry Association

    International Technology Roadmap for Semiconductors 89, 2002

    被引用文献1件

  • <no title>

    TSUJIMURA M.

    Proceeding of the 19th symposium on material science and engineering research center of ion beam technology, HOSEI UNIVERSITY, December 13-14, 2000 31, 2000

    被引用文献1件

  • <no title>

    柴田元

    超音波工学, 1993

    被引用文献2件

  • <no title>

    井上辰雄

    エバラ時報 181, 65, 1998

    被引用文献1件

  • <no title>

    KODERA M.

    Proceedings of the IEEE 2002 International Interconnect Technology Conference 105, 2002

    被引用文献1件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10013443107
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00037212
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03759253
  • NDL 記事登録ID
    6986771
  • NDL 雑誌分類
    ZP5(科学技術--化学・化学工業--化学工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-53
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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