地球温暖化防止に配慮した多層配線プロセスの開発 Development of ULSI interconnect process from a special viewpoint to overcome the global warming issue

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著者

    • 伊藤 仁 ITOH Hitoshi
    • 技術研究組合超先端電子技術開発機構 Association of Super-Advanced Electronics Technologies

収録刊行物

  • 應用物理

    應用物理 73(9), 1192-1195, 2004-09-10

    応用物理学会

参考文献:  16件中 1-16件 を表示

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10013536536
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00026679
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03698009
  • NDL 記事登録ID
    7081708
  • NDL 雑誌分類
    ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
  • NDL 請求記号
    Z15-243
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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