エキシマレーザ加工により高分子光導波路に形成された45度マイクロミラー 45 Degree Micro-Mirror Formed Using Excimer Laser Processing for Polymeric Waveguide

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著者

抄録

光電気混載板の任意の光導波路コアから光入出力を可能とするマイクロミラーの形成方法を開発した。ポリイミド光導波路に対して斜めにKrFエキシマレーザを照射させることにより,45度マイクロミラーが±1度の精度で形成できた。加工したマイクロミラーは平面ミラーではなく,コアの幅方向に対して凹面ミラーとなっていた。これは,集光効果があるために,90度光路変換を伴う光結合において,非常に有利であることがわかった。得られたマイクロミラーの反射損失は約0.6dBであり,実用レベルであることが示された。

A micro-mirror formed using excimer laser processing for a fluorinated polyimide waveguide film is demonstrated. The tilted excimer laser irradiation to the waveguide core formed a micro-mirror with an angle of 45 ± 1 degree. The micro-mirror had a cylindrical shape and exhibited a lens effect as a concave mirror. The micro-mirror exhibited a low reflection loss of approximately 0.6dB at a wavelength of 850 nm.

収録刊行物

  • エレクトロニクス実装学会誌

    エレクトロニクス実装学会誌 7(7), 607-612, 2004-11-01

    社団法人エレクトロニクス実装学会

参考文献:  9件中 1-9件 を表示

被引用文献:  2件中 1-2件 を表示

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10013715672
  • NII書誌ID(NCID)
    AA11231565
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    13439677
  • NDL 記事登録ID
    7141391
  • NDL 雑誌分類
    ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
  • NDL 請求記号
    Z74-B258
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL  NII-ELS 
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