AlドープZnO透明導電膜の反応性スパッタリングによる高速成膜 High Rate Depositions of Transparent Conductive Al-doped ZnO Films by Reactive Sputtering

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  • 真空 = JOURNAL OF THE VACUUM SOCIETY OF JAPAN

    真空 = JOURNAL OF THE VACUUM SOCIETY OF JAPAN 47(10), 727-733, 2004-10-20

    一般社団法人 日本真空学会

参考文献:  28件中 1-28件 を表示

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10013767034
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    05598516
  • NDL 記事登録ID
    7143497
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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