イオンビームスパッタリングによるMg-Si薄膜形成  [in Japanese] Formation of Mg-Si Thin Film Deposited by Ion Beam Sputtering  [in Japanese]

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  • 日本金屬學會誌 = Journal of the Japan Institute of Metals

    日本金屬學會誌 = Journal of the Japan Institute of Metals 69(1), 31-35, 2005-01-20

    日本金属学会

References:  20

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    10014305477
  • NII NACSIS-CAT ID (NCID)
    AN00062446
  • Text Lang
    JPN
  • Article Type
    ART
  • ISSN
    00214876
  • NDL Article ID
    7227873
  • NDL Source Classification
    ZP41(科学技術--金属工学・鉱山工学)
  • NDL Call No.
    Z17-314
  • Data Source
    CJP  NDL 
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