PECVD成膜装置内での粒子汚染現象に対する操作流量の影響  [in Japanese] Effects of Gas Flow Rate on Particulate Contamination in a PECVD Reactor  [in Japanese]

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Author(s)

    • 林 豊 HAYASHI Yutaka
    • 広島大学大学院工学研究科物質化学システム専攻 Department of Chemical Engineering, Graduate School of Engineering, Hiroshima University
    • 島田 学 SHIMADA Manabu
    • 広島大学大学院工学研究科物質化学システム専攻 Department of Chemical Engineering, Graduate School of Engineering, Hiroshima University
    • 奥山 喜久夫 OKUYAMA Kikuo
    • 広島大学大学院工学研究科物質化学システム専攻 Department of Chemical Engineering, Graduate School of Engineering, Hiroshima University
    • 柏原 伸紀 KASHIHARA Nobuki
    • 科学技術振興機構研究成果活用プラザ広島 Innovation Plaza Hiroshima, JST (Japan Science and Technology Agency)

Journal

  • Journal of the Society of Powder Technology,Japan

    Journal of the Society of Powder Technology,Japan 42(2), 105-109, 2005-02-10

    粉体工学会

References:  11

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    10014398172
  • NII NACSIS-CAT ID (NCID)
    AN00222757
  • Text Lang
    JPN
  • Article Type
    ART
  • ISSN
    03866157
  • NDL Article ID
    7247206
  • NDL Source Classification
    ZP5(科学技術--化学・化学工業--化学工学)
  • NDL Call No.
    Z17-38
  • Data Source
    CJP  NDL 
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