UV-O_2酸化による高信頼ゲート酸化膜の形成

• 寺本 章伸

  三菱電機(株)

• 鹿間 省三

  三菱電機(株)

• 小林 清輝

  三菱電機(株)

• 松井 安次

  三菱電機(株)

• 平山 誠

  三菱電機(株)

書誌事項

タイトル別名

• Highly Reliable Gate Oxides Formed by UV-O_2 Oxidation

収録刊行物

• 半導体・集積回路技術シンポジウム講演論文集

  半導体・集積回路技術シンポジウム講演論文集 51 84-89, 1996-12-05

詳細情報

• CRID: 1572824500130770176
• NII論文ID: 10016722220
• NII書誌ID: AN00348438
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles