多層膜合成用のT/クランク-ハイブリッドFADの開発

• 彦坂 博紀

  豊橋技術科学大学

• 岩崎 康浩

  豊橋技術科学大学

• 滝川 浩史

  豊橋技術科学大学

• 榊原 建樹

  豊橋技術科学大学

• 長谷川 祐史

  株式会社オンワード技研

• 辻 信広

  株式会社オンワード技研

書誌事項

タイトル別名

• Development of T/Crank-Hybrid Filtered Arc Deposition Apparatus for multilayer films

収録刊行物

• 電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会

  電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会 2005 (73), 55-59, 2005-10-27

キーワード

• X字状フィルタードアーク蒸着(X-FAD)装置
• 水素フリーDLC(ta-C)膜
• Cr膜
• 超硬基材
• 接着層

詳細情報

• CRID: 1572261550165567232
• NII論文ID: 10016841217
• NII書誌ID: AA11501025
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles