イオン照射によりSi基板に導入された格子歪みの深さ方向分布の解析

• 榎本 貴志

• Parlapalli Venkata Satyam

• 秋本 晃一

書誌事項

タイトル別名

• イオン ショウシャ ニ ヨリ Si キバン ニ ドウニュウ サレタ コウシ ヒズミ ノ フカサ ホウコウ ブンプ ノ カイセキ

収録刊行物

• 放射光 : 日本放射光学会誌 = Journal of the Japanese Society for Synchrotron Radiation Research / 日本放射光学会 編

  放射光 : 日本放射光学会誌 = Journal of the Japanese Society for Synchrotron Radiation Research / 日本放射光学会 編 19 (3), 151-158, 2006-05

  大阪 : 日本放射光学会

詳細情報

• CRID: 1520009407293761664
• NII論文ID: 10016973851
• NII書誌ID: AN10075706
• ISSN: 09149287
• NDL書誌ID: 7978151
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I7978151
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZM35(科学技術--物理学)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles