ナノパルスプラズマの状態評価及びDLC膜合成への応用

• 齊藤 隆雄

  日本ガイシ（株）

• 近藤 好正

  日本ガイシ（株） 東京工業大学大学院

• 寺澤 達矢

  日本ガイシ（株）

• 斉藤 雅典

  東京工業大学大学院

• 大竹 尚登

  東京工業大学大学院

書誌事項

タイトル別名

• Evaluation of Nanopulse Plasma and its Application to DLC Film Deposition
• ナノパルスプラズマ ノ ジョウタイ ヒョウカ オヨビ DLC マク ゴウセイ エ ノ オウヨウ

抄録

The nanopulse CVD method open the way of DLC deposition at sub-atmospheric pressure. On the other hand, plasma characteristics of nanopulse plasma have not investigated yet. In this paper, we have investigated the plasma characteristics of nanopulse plasma using the Langmuir probe method at low pressure. Using of the characteristics of high electron density created by positive pulse, we have developed the bipolar nanopulse generator consisted with Static Induction Thyristor devices. The deposition rate of this bipolar nanopulse plasma CVD method is five fold higher than that of normal unipolar pulse CVD method. The productivity of plasma assisted coating will be significantly improved by this bipolar nanopulse CVD method.

収録刊行物

• 電気学会論文誌．　Ａ

  電気学会論文誌．　Ａ 126 (3), 157-162, 2006

  一般社団法人 電気学会

キーワード

• ナノパルス
• バイポーラ
• プラズマ
• 電子密度
• 電子温度
• ダイヤモンド状炭素膜
• CVD

詳細情報

• CRID: 1390282679571474560
• NII論文ID: 10017277171
• NII書誌ID: AN10136312
• DOI: 10.1541/ieejfms.126.157
• ISSN: 13475533
• ISSN: 03854205
• NDL書誌ID: 7855714
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I7855714
• Web Site: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejfms/126/3/126_3_157/_pdf
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
  • KAKEN
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可