Invited: High-k/Metal Gate Stack for Advanced CMOS

• 奈良 安雄

Bibliographic Information

Other Title

• Invited High k Metal Gate Stack for Advanced CMOS
• 招待講演 先端CMOS向けHigh-k/メタルゲートスタック技術
• AWAD2006
• AWAD2006

Journal

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 106 (137), 89-92, 2006-07

  東京 : 電子情報通信学会

Keywords

• ゲート絶縁膜
• High-kゲート絶縁膜
• Gate Dielectrics
• High-k Gate Dielectrics

Details

• CRID: 1520290882771026432
• NII Article ID: 110004813201
• NII Article ID: 10018216735
• NII Article ID: 110004840437
• NII Book ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL BIB ID: 8015572
• NDL BIB ID: 8016572
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I8015572
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I8016572
• Text Lang: en
• NDL Source Classification:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• Data Source:
  • NDL
  • CiNii Articles