ArF Photo Resist Pattern Improvement by VUV Cure

• 宮武 久和

• 伊藤 隆司

書誌事項

タイトル別名

• VUVキュアーによるArFリソグラフィーパターンの改善
• AWAD2006
• AWAD2006

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 106 (138), 211-216, 2006-07

  東京 : 電子情報通信学会

キーワード

• ドライエッチング耐性
• メタクリレート
• アクリレート
• レジスト
• UVキュアー
• LER
• CD-SEM
• 線幅縮小
• dry etching resistance
• methacrylate
• acrylate
• UV cure
• Line width shrinkage

詳細情報

• CRID: 1520009408121460736
• NII論文ID: 110004840462
• NII論文ID: 10018216987
• NII論文ID: 110004813226
• NII書誌ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL書誌ID: 8016855
• NDL書誌ID: 8016058
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I8016855
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I8016058
• 本文言語コード: en
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles