対向拡散CVD法による水素選択透過シリカ膜開発

• 野村 幹弘

• 中尾 真一

Bibliographic Information

Other Title

• タイコウ カクサン CVDホウ ニ ヨル スイソ センタク トウカ シリカ マク カイハツ
• 特集 高効率水素製造を実現するセラミック膜の最前線
• トクシュウ コウコウリツ スイソ セイゾウ オ ジツゲン スル セラミック マク ノ サイゼンセン

Journal

• Ceramics Japan = セラミックス : bulletin of the Ceramic Society of Japan

  Ceramics Japan = セラミックス : bulletin of the Ceramic Society of Japan 41 (11), 917-920, 2006-11

  東京 : 日本セラミックス協会

Keywords

• Silica membrane
• Hydrogen separation
• Counter diffusion chemical vapor deposition

Details

• CRID: 1520290884329553536
• NII Article ID: 10018344418
• NII Book ID: AN00131516
• ISSN: 0009031X
• NDL BIB ID: 8565964
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I8565964
• Text Lang: ja
• NDL Source Classification:
  • ZP9(科学技術--化学・化学工業--無機化学・無機化学工業--セラミックス・窯業)
• Data Source:
  • NDL
  • CiNii Articles