アルカリハライド表面でのフタロシアニンのエピタキシャル成長のシミュレーション

• 星 肇

  東京工業大学・工学部・有機材料工学科

• 中尾 聡

  東京工業大学・工学部・有機材料工学科

• 石川 謙

  東京工業大学・工学部・有機材料工学科

• 竹添 秀男

  東京工業大学・工学部・有機材料工学科

Journal

• Molecular electronics and bioelectronics

  Molecular electronics and bioelectronics 9 (3), 114-117, 1998-08-24

Details

• CRID: 1574231875121502464
• NII Article ID: 10018958267
• NII Book ID: AN10464559
• Text Lang: ja
• Data Source:
  • CiNii Articles