C_7F_<16>を用いたC:F膜の堆積とその評価 : ガス圧依存性および気体混合による効果

• 鉾井 耕司

  北海道大学

• 赤澤 正道

  北海道大学

• 菅原 広剛

  北海道大学

• 須田 善行

  北海道大学

• 酒井 洋輔

  北海道大学

書誌事項

タイトル別名

• Deposition and Characterization of C:F Films Using C_7F_<16> : Effect of Material Gas Pressure and Gas Additions

収録刊行物

• 電気学会研究会資料. ED, 放電研究会

  電気学会研究会資料. ED, 放電研究会 2001 (111), 13-18, 2001-08-07

キーワード

• 低誘電率
• 比誘電率
• CVD
• フルオロカーボン
• プラズマ
• C_7F_<16>

詳細情報

• CRID: 1571698600346098176
• NII論文ID: 10018988389
• NII書誌ID: AN10320559
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles