書誌事項
- タイトル別名
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- Development of Reactive Sputtering Method Assisted by Inductively Coupled Discharge for High-Rate Deposition of Magnesium Oxide
- MgO高速成膜用誘導放電支援反応性スパッタリング法の開発
- MgO コウソクセイ マクヨウ ユウドウ ホウデン シエン ハンノウセイ スパッタリングホウ ノ カイハツ
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抄録
プラズマディスプレイパネルにおける電極保護膜として利用される酸化マグネシウム薄膜のいっそうの高品質化と高速成膜化を実現することを目指して、コンベンショナルなプレーナマグネトロンと誘導結合プラズマとを融合した新しい反応性スパッタリングプロセスを提案する。本報告では、これまでに得られた電気的放電特性とプラズマパラメータ(電子密度、電子温度)発光特性についての実験結果を示し、誘導結合プラズマ支援プレーナマグネトロンスパッタリング装置開発の現状を報告する。
収録刊行物
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- 映像情報メディア学会技術報告
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映像情報メディア学会技術報告 26.6 (0), 127-132, 2002
一般社団法人 映像情報メディア学会
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001204526877824
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- NII論文ID
- 110003269926
- 10018990717
- 110003671692
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- NII書誌ID
- AN1059086X
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- ISSN
- 09135685
- 24241970
- 13426893
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可