プラズマＣＶＤ法による歯科金属材料へのＴｉＯ２コーティング

• 丸森 亮太朗

  東北大学大学院歯学研究科 腔修復学講座咬合機能再建学分野

• 木村 禎一

  東北大学金属材料研究所複合機能材料学部門

• 後藤 孝

  東北大学金属材料研究所複合機能材料学部門

• 依田 正信

  東北大学大学院歯学研究科 腔修復学講座咬合機能再建学分野

• 木村 幸平

  東北大学大学院歯学研究科 腔修復学講座咬合機能再建学分野

書誌事項

タイトル別名

• Preparation of TiO2 Coating on Dental Metal Materials by Plasma CVD
• プラズマ CVDホウ ニ ヨル シカ キンゾク ザイリョウ エノ TiO2 コーティング

抄録

In this study, TiO₂ films were prepared on Ag-Pd alloys by Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) using Ti(O-i-Pr)₂(dpm)₂ precursor. Ag-Pd alloys are widely used as a substrate material of a resin-veneered dental crown. Since an adhesion of a dental resin to the Ag-Pd alloy substrate is poor, protuberances are usually formed on the substrate surface to sustain the mechanical retention. One of the weak points in the resin-veneered dental crown is that a mechanical retention should be indispensable to fix the resin onto the metal frame. Instead of mechanical retention, TiO₂ films were prepared on the substrates.<BR>The effects of the deposition conditions on the crystalline phases, microstructures, and color of the deposited films were investigated. As a result, at a substrate pre-heating temperature T_dep=500°C, microwave power P_M=2 kW, deposition pressure P_tot=0.4 or 0.7 kPa, the film color changed from black to white, and crystalline phase was anatase. And the microstructure of the film was granular. The grain size was a diameter of about 100 nm. These are optimum deposition conditions.

収録刊行物

• 粉体および粉末冶金

  粉体および粉末冶金 55 (5), 331-335, 2008

  一般社団法人 粉体粉末冶金協会

キーワード

• TiO<SUB>2</SUB>
• PECVD
• resin
• dental crown
• deposition condition

詳細情報

• CRID: 1390282681285903616
• NII論文ID: 10021173170
• NII書誌ID: AN00222724
• DOI: 10.2497/jjspm.55.331
• COI: 1:CAS:528:DC%2BD1cXms1Cqtb4%3D
• ISSN: 18809014
• ISSN: 05328799
• NDL書誌ID: 9531547
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I9531547
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
  • KAKEN
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可