先端の半導体製造プロセスに用いられるエアロゾル洗浄技術 Cryogenic Aerosol Cleaning Technology for Advanced Semiconductor Manufacturing Process

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抄録

Cryogenic aerosol cleaning is a very unique technology that cleans without the use of chemicals and de-ionized water. With optimization of recipe parameters, this technology will provide solutions for the significant problems or difficulties in new materials, e.g., high-k or metal gate, fragile porous low-k, sensitive gate pattern for 65 nm node, in which the conventional wet cleaning may not meet the requirements. As the technology node goes on for 45 nm node beyond, cryogenic aerosol technology will be required to be implemented for advanced production line.

収録刊行物

  • エアロゾル研究 = Journal of aerosol research

    エアロゾル研究 = Journal of aerosol research 22(1), 11-13, 2007-03-20

    日本エアロゾル学会

参考文献:  3件中 1-3件 を表示

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10021917999
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10041511
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    09122834
  • NDL 記事登録ID
    8750180
  • NDL 雑誌分類
    ZP5(科学技術--化学・化学工業--化学工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-1062
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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