反応現像画像形成に基づく新規感光性エンジニアリングプラスチックの開発

• 大山 俊幸

書誌事項

タイトル別名

• ハンノウ ゲンゾウ ガゾウ ケイセイ ニ モトズク シンキ カンコウセイ エンジニアリングプラスチック ノ カイハツ
• Development of novel engineering plastics based on reaction development patterning
• 高分子科学・工学のニューウェーブ--2010
• コウブンシ カガク コウガク ノ ニューウェーブ 2010

収録刊行物

• 高分子論文集 = Japanese journal of polymer science and technology

  高分子論文集 = Japanese journal of polymer science and technology 67 (8), 477-488, 2010

  東京 : 高分子学会

キーワード

• Reaction Development Patterning
• RDP
• Photosensitive Polyimide
• Photosensitive Polycarbonate
• Photosensitive Polyarylate
• Nucleophilic Acyl Substitution
• Photosensitive Agent
• Diazonaphthoquinone
• DNQ
• N-Phenylmaleimide
• Tetramethylammonium Hydroxide
• TMAH
• Chemical Amplification

詳細情報

• CRID: 1520009408547493760
• NII論文ID: 10026584709
• NII書誌ID: AN00085011
• ISSN: 03862186
• NDL書誌ID: 10814364
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I10814364
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZP16(科学技術--化学・化学工業--高分子化学・高分子化学工業)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles