斜方入射スパッタ粒子を利用して作製した高異方性磁界を有するFeCoB膜 FeCoB Films with High In-Plane Uniaxial Magnetic Anisotropy Field Prepared Using Oblique Incidence of Sputtered Particles

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著者

    • 中川 茂樹 NAKAGAWA S.
    • 東京工業大学大学院電子物理工学専攻 Department of Physical Electronics, Tokyo Institute of Technology

収録刊行物

  • まぐね = Magnetics Japan

    まぐね = Magnetics Japan 7(1), 26-32, 2012-02-01

    日本応用磁気学会

参考文献:  15件中 1-15件 を表示

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  • 企画の意図(<特集>「磁性薄膜作製技術」)

    本多 茂男 , 高橋 三郎 , 福家 ひろみ

    日本応用磁気学会誌 29(9), 844, 2005

    被引用文献1件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10030284490
  • NII書誌ID(NCID)
    AA1211610X
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    18807208
  • NDL 記事登録ID
    023519764
  • NDL 請求記号
    Z74-E810
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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