光塩基発生反応と塩基増殖反応を用いた高感度光反応性材料の開発 Development of Highly Sensitive Photoreactive Materials Utilizing Photobase-generating Reactions and Base Proliferation Reactions

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著者

    • 有光 晃二 ARIMITSU Koji
    • 東京理科大学理工学部工業化学科 Department of Pure and Applied Chemistry, Faculty of Science and Technology, Tokyo University of Science

抄録

Only a few articles have mentioned photoreactive materials relying on base-catalyzed transformations have been reported. This is probably due to relatively low quantum yields for photobase generation and weaker basicity of photogenerated bases, leading to low photosensitivity of photoreactive materials sensitized with photobase generators (PBGs). We report here novel PBGs to release organic strong bases with high quantum yields and a novel concept of base proliferation to improve the photosensitivity of the photoreactive materials. The concept involves the base-catalyzed decomposition of an organic compound termed a base amplifier (BA) which produces a newborn base molecule, leading to its autocatalytic decomposition. The addition of BAs to the photoreactive materials resulted in the marked improvement of photosensitivity because the number of photogenerated base molecules increases markedly as a result of the base proliferation reaction of the doped BA.

収録刊行物

  • 有機合成化学協会誌

    有機合成化学協会誌 70(5), 508-516, 2012-05-01

    社団法人 有機合成化学協会

参考文献:  36件中 1-36件 を表示

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10030765560
  • NII書誌ID(NCID)
    AN0024521X
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    00379980
  • NDL 記事登録ID
    023773460
  • NDL 請求記号
    Z17-256
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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