減圧CVD法によるチタン酸バリウム薄膜の作製

• 秋山 泰伸

  東海大学大学院工学研究科工業化学専攻

• 淺香 隆

  東海大学大学院工学研究科工業化学専攻

• 樋口 昌史

  東海大学大学院工学研究科工業化学専攻

• 片山 恵一

  東海大学大学院工学研究科工業化学専攻

• 関根 徹明

  東海大学大学院工学研究科工業化学専攻

書誌事項

タイトル別名

• Preparation of Barium Titanate Thin Film by Low Pressure Chemical Vapor Deposition Method

収録刊行物

• Journal of the Society of Inorganic Materials, Japan : セッコウ・石灰・セメント・地球環境の科学

  Journal of the Society of Inorganic Materials, Japan : セッコウ・石灰・セメント・地球環境の科学 19 (361), 379-384, 2012-11-01

キーワード

• CVD
• Barium titanate
• Thin film
• Dielectric compound

詳細情報

• CRID: 1571135651138033408
• NII論文ID: 10031081358
• NII書誌ID: AA11416367
• ISSN: 13453769
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles