球状単結晶シリコンの異方性エッチングによるマイクロ形状創成 Micro Structure Fabrication in Ball Semiconductor by Anisotropic Etching

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抄録

It is known that a high performance micro system for the medical treatment, biotechnology, and nanotechnology etc, become a system where the electric circuit and the sensor are integrated on flat surface and spherical surface etc. In the future, anisotropic etching for spherical single-crystal silicon can be a key technique in order to develop a higher performance micro system. This paper has investigated the result of microstructure fabrication in spherical single-crystal silicon by anisotropic etching, and proposed a selection indicator in the line direction of mask pattern (crystal orientation), which is corresponded to users.

収録刊行物

  • 精密工学会誌 = Journal of the Japan Society of Precision Engineering

    精密工学会誌 = Journal of the Japan Society of Precision Engineering 69(7), 960-964, 2003-07-05

    公益社団法人精密工学会

参考文献:  8件中 1-8件 を表示

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    110001368497
  • NII書誌ID(NCID)
    AN1003250X
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    09120289
  • NDL 記事登録ID
    6638630
  • NDL 雑誌分類
    ZN12(科学技術--機械工学・工業--精密機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-466
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  NII-ELS  J-STAGE 
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