最先端薄膜技術　　大気圧プラズマによる超精密加工と高速成膜

• 森 勇藏

  大阪大学大学院工学研究科

• 安武 潔

  大阪大学大学院工学研究科

• 山村 和也

  大阪大学大学院工学研究科

• 垣内 弘章

  大阪大学大学院工学研究科

書誌事項

タイトル別名

• Ultre-Precision Machining and High-Rate Deposition of Thin Films Using Atmospheric Pressure Plasma
• カイセツ タイキアツ プラズマ ニ ヨル チョウセイミツ カコウ ト コウソクセイ マク

収録刊行物

• 精密工学会誌

  精密工学会誌 66 (4), 517-522, 2000

  公益社団法人 精密工学会

キーワード

• atmospheric pressure plasma
• radical
• plasma CVM
• plasma CVD
• rotary electrode
• ultra-precision machining
• high-rate deposition
• silicon wafer
• amorphous silicon

詳細情報

• CRID: 1390001204766108160
• NII論文ID: 110001372918
• NII書誌ID: AN1003250X
• DOI: 10.2493/jjspe.66.517
• ISSN: 1882675X
• ISSN: 09120289
• NDL書誌ID: 5336951
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I5336951
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles