19pRH-3 Si(113)微斜面の酸素ガスエッチング過程におけるファセット成長

• 須藤 孝一

  阪大産研

• 岩崎 裕

  阪大産研

書誌事項

タイトル別名

• Facet Growth during O_2 etching on vicinal Si(113)

収録刊行物

• 日本物理学会講演概要集

  日本物理学会講演概要集 56.2.4 (0), 749-, 2001

  一般社団法人 日本物理学会

詳細情報

• CRID: 1390001206039517440
• NII論文ID: 110002048552
• DOI: 10.11316/jpsgaiyo.56.2.4.0_749_3
• ISSN: 21890803
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • CiNii Articles