30p-G-10 Si(001)表面上のGeのサーファクタント媒介エピタキシー : CAICISSによるリアルタイム観察・制御
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- 片山 光浩
- 理研
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- 中山 知信
- 理研
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- McConville C.F.
- Warwick大
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- 青野 正和
- 理研 : 新技団青野プロジェクト
書誌事項
- タイトル別名
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- 30p-G-10 Surfactant Meditated Epitaxial Growth of Ge on Si(001) as Moniter & Controlled by CAICISS
収録刊行物
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- 日本物理学会講演概要集. 年会
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日本物理学会講演概要集. 年会 48.2 (0), 450-, 1993
一般社団法人 日本物理学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282681166776448
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- NII論文ID
- 110002216282
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- ISSN
- 24331112
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- CiNii Articles