その場反応により生成されたTiN粒子分散Si₃N₄基複合材料

• 上野 和夫

  大阪工業技術研究所エネルギー変換材料部

• 井上 貴博

  大阪工業技術研究所エネルギー変換材料部

• 袖岡 賢

  大阪工業技術研究所エネルギー変換材料部

• 鈴木 雅人

  大阪工業技術研究所エネルギー変換材料部

• 石川 博

  大阪工業技術研究所エネルギー変換材料部

• 内山 耕二郎

  大阪ハイテクノロジー専門学校材料科学科

• 乾 つづる

  大阪ハイテクノロジー専門学校材料科学科

書誌事項

タイトル別名

• Si₃N₄-Matrix Composite with TiN Particles Formed by In-situ Reaction
• Si3N4 Matrix Composite with TiN Particl

抄録

Si₃N₄ matrix composite reinforced with 5vol% TiN particles was fabricated by the in-situ reaction: 4TiO₂+4AlN→4TiN+2Al₂O₃+O₂, followed by hot-pressing. The internal TiN formation reaction was studied using TiO₂ powders with three different particle sizes (0.28, 0.35 and 1.19μm). The reaction is likely to start from nearly 1150°C and finishes at 1450°C, before the Si₃N₄ matrix is sintered, and TiN formation is confirmed from the unit cell dimension. TiN particle sizes in the composites sintered at 1600°C and 1850°C were measured. When the TiO₂ particle size was large (1.19μm), the particle crumbled into fragments and underwent nitridation to TiN with a smaller size than that of the original TiO₂. Smaller TiO₂(0.28μm) was converted into TiN particles of nearly the same size. These results suggest that the in situ TiN formation proceeds through nitridation of TiO₂ particles.

収録刊行物

• Journal of the Ceramic Society of Japan (日本セラミックス協会学術論文誌)

  Journal of the Ceramic Society of Japan (日本セラミックス協会学術論文誌) 105 (1220), 304-307, 1997

  公益社団法人 日本セラミックス協会

キーワード

• Silicon nitride
• Titanium nitride
• Titanium oxide
• In situ reaction
• Composite
• Nitridation

詳細情報

• CRID: 1390001205277965440
• NII論文ID: 110002289154
• NII書誌ID: AN10040326
• DOI: 10.2109/jcersj.105.304
• ISSN: 18821022
• ISSN: 09145400
• ISSN: http://id.crossref.org/issn/09145400
• NDL書誌ID: 4184878
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4184878
• Web Site: http://www.jstage.jst.go.jp/article/jcersj1988/105/1220/105_1220_304/_pdf
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可