シリコン半導体上におけるビスマス系層状構造強誘導体のリキツドソースを用いたケミカルアプローチ

• 加藤 一実

  産業技術総合研究所セラミックス研究部門 東京工業大学

• 鈴木 一行

  産業技術総合研究所セラミックス研究部門

• 符 徳勝

  産業技術総合研究所セラミックス研究部門

• 西澤 かおり

  産業技術総合研究所セラミックス研究部門

• 三木 健

  産業技術総合研究所セラミックス研究部門

書誌事項

タイトル別名

• Special Issue Ceramics Integration. Integration of Ferroelectric Ca2Bi4Ti5O18 Thin Films on Pt-Passivated Si via Spin-Coating Technique.
• Integration of Ferroelectric Ca2Bi4Ti5O18 Thin Films on Pt-Passivated Si via Spin-Coating Technique

抄録

Ca₂Bi₄Ti₅O₁₈ (CBTi245) thin films were deposited by spin-coating a precursor solution of metal alkoxides on Pt-passivated Si substrates. Thickness of the as-deposited amorphous layer affected the nucleation site, microstructure and electrical properties. The onset of crystallization of thin films to a pyrochlore phase was below 550°C via rapid thermal annealing in oxygen. A perovskite phase developed by further annealing at temperatures of 650°C or higher. The CBTi245 thin films which were prepared by multi-coating and multicrystallizing of the 20 nm-thick amorphous layer showed random orientation, a columnar-like structure, and P-E hysteresis loops.

収録刊行物

• Journal of the Ceramic Society of Japan (日本セラミックス協会学術論文誌)

  Journal of the Ceramic Society of Japan (日本セラミックス協会学術論文誌) 110 (1281), 403-407, 2002

  公益社団法人 日本セラミックス協会

キーワード

• Ferroelectric thin film
• Aurivillius compound
• Alkoxide precursor
• Spin-on dopesition
• Crystallization behavior
• Microstructure
• Ferroelectric property

詳細情報

• CRID: 1390001205249771392
• NII論文ID: 110002291620
• NII書誌ID: AN10040326
• DOI: 10.2109/jcersj.110.403
• ISSN: 18821022
• ISSN: 09145400
• NDL書誌ID: 6154508
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I6154508
• Web Site: http://www.jstage.jst.go.jp/article/jcersj1988/110/1281/110_1281_403/_pdf
• 本文言語コード: en
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可