窒化ケイ素セラミックスのCr蒸気メタライジング

• 高島 敏行

  北海道工業大学機械工学科

• 山本 強

  北海道工業大学機械工学科

• 成田 敏夫

  北海道大学工学部金属工学科

書誌事項

タイトル別名

• The Metallization on a Si₃N₄ Ceramics by Using Cr Vapor
• チッカ ケイソ セラミックス ノ Cr ジョウキ メタライジング

抄録

Formation of Cr-metallized layer on the surface of Si₃N₄ ceramic by the vapor-diffusion method was studied. The metallization was carried out in a quartz capsule at 1273K for up to 72ks. As a vapor source, pure Cr powder was used. The kinetics of layer growth was parabolic with the rate constant of 1.0×10^-14m²·s^-1 at 1273K. The metallized layer was composed of two lyers; Cr₂N and CrN at the surface layer and Cr₂Si at the inner layer as identified by the X-ray diffraction analysis. The hardness of the metallized layer increased gradually from H_v 668 at surface to H_v 1179 at inner part.

収録刊行物

• Journal of the Ceramic Society of Japan (日本セラミックス協会学術論文誌)

  Journal of the Ceramic Society of Japan (日本セラミックス協会学術論文誌) 96 (1109), 1-5, 1988

  公益社団法人 日本セラミックス協会

キーワード

• Silicon nitride
• Vapor-diffusion
• Metallization
• Bonding
• Chromium nitride
• Chromium silicide

詳細情報

• CRID: 1390001205278190080
• NII論文ID: 110002291862
• NII書誌ID: AN10040326
• DOI: 10.2109/jcersj.96.1
• ISSN: 18821022
• ISSN: 09145400
• NDL書誌ID: 3169302
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I3169302
• Web Site: http://www.jstage.jst.go.jp/article/jcersj1988/96/1109/96_1109_1/_pdf
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可