404 平坦化のためのシリコンウェーハ研磨装置の最適設計 : 最適設計支援ツールを用いた最適値探索

• 宮嶋 隆司

  長野県工試:信州大

• 工藤 誠一

  長野県工試

• 中村 正行

  信州大

• 小林 光征

  信州大

書誌事項

タイトル別名

• Optimum Design of Silicon Wafer Polishing Machine for Planarization : Search for optimum design value with design optimization tool

収録刊行物

• 北陸信越支部総会・講演会　講演論文集

  北陸信越支部総会・講演会　講演論文集 2003.40 (0), 127-128, 2003

  一般社団法人 日本機械学会

キーワード

• Silicon Wafer
• Polishing Machine
• Optimization
• Planarization
• Design optimization tool

詳細情報

• CRID: 1390001205868361088
• NII論文ID: 110002480399
• DOI: 10.1299/jsmehs.2003.40.127
• ISSN: 24242772
• Web Site: https://www.jstage.jst.go.jp/article/jsmehs/2003.40/0/2003.40_127/_pdf
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • Crossref
  • CiNii Articles