Si FEAのHfC被覆による特性改善--引出ゲート付きHfC被覆Si FEAの作製と評価

• 佐藤 貴伸

• 山本 恵彦

• 長尾 昌善

書誌事項

タイトル別名

• Si FEA ノ HfC ヒフク ニ ヨル トクセイ カイゼン ヒキダシ ゲート ツキ HfC ヒフク Si FEA ノ サクセイ ト ヒョウカ

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 102 (502), 51-56, 2002-12-13

  東京 : 電子情報通信学会

キーワード

• 薄型ディスプレイ
• FED
• 真空マイクロエレクトロニクス
• 表面改質
• Flat panel display
• Vacuum microelectronics
• Surface modification

詳細情報

• CRID: 1520290882043880576
• NII論文ID: 110003175248
• NII書誌ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL書誌ID: 6434890
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I6434890
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles