Epitaxial Growth of SiGe Films Grown by Ion-Beam Sputtering and Generation of Large Thermoelectric Power

• 佐々木 公洋

• 北居 正弘

• 渡瀬 博之

書誌事項

タイトル別名

• Epitaxial Growth of SiGe Films Grown by Ion Beam Sputtering and Generation of Large Thermoelectric Power
• イオンビームスパッタ法によるSiGe膜のエピタキシャル成長と巨大熱起電力の発現
• 2004 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applicat ion of Advanced Semiconductor Devices (AWAD 2004)
• 2004 Asia Pacific Workshop on Fundamentals and Applicat ion of Advanced Semiconductor Devices AWAD 2004

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 104 (152), 91-95, 2004-06-30

  東京 : 電子情報通信学会

キーワード

• シリコンゲルマニュウム
• イオンビームスパッタリング
• ひずみ緩和
• Epitaxial growth
• Ion beam sputtering
• Strain relaxation
• Thermoelectric power

詳細情報

• CRID: 1520572358333777408
• NII論文ID: 110003175593
• NII論文ID: 110003309126
• NII書誌ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL書誌ID: 7036800
• NDL書誌ID: 7036617
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I7036800
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I7036617
• 本文言語コード: en
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles