Effects of Electric Field on Metal-Induced Lateral Crystallization of Si Films under Limited Ni-Supply Condition

• 中川 豪

• 柴田 憲利

• 浅野 種正

書誌事項

タイトル別名

• Effects of Electric Field on Metal Induced Lateral Crystallization of Si Films under Limited Ni Supply Condition
• Si薄膜のNi供給量制限MILC成長における電界印加効果
• 2004 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applicat ion of Advanced Semiconductor Devices (AWAD 2004)
• 2004 Asia Pacific Workshop on Fundamentals and Applicat ion of Advanced Semiconductor Devices AWAD 2004

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 104 (155), 113-118, 2004-06-30

  東京 : 電子情報通信学会

キーワード

• 多結晶シリコン
• TFT
• 金属誘起横方向結晶化
• 針状Si結晶
• ニッケリシリサイド
• poly-Si
• Metal-Induced Lateral
• Crystallization
• needle-like Si
• Ni-siliside
• electric field

詳細情報

• CRID: 1520009407085866496
• NII論文ID: 110003175597
• NII論文ID: 110003309134
• NII書誌ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL書誌ID: 7036672
• NDL書誌ID: 7036817
• Web Site: http://id.ndl.go.jp/bib/7036672
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I7036672
• Web Site: http://id.ndl.go.jp/bib/7036817
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I7036817
• 本文言語コード: en
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles