ELOによりWNx電極を埋込むGaN構造の作製と評価

• 灰野 正紘

• 山口 元男

• 元垣内 敦司

書誌事項

タイトル別名

• ELO ニ ヨリ WNx デンキョク オ ウメコム GaN コウゾウ ノ サクセイ ト ヒョウカ
• 特集:結晶成長及び評価技術及び一般(化合物,Si,電子材料,太陽電池,高耐圧大電力素子等)
• トクシュウ ケッショウ セイチョウ オヨビ ヒョウカ ギジュツ オヨビ イッパン カゴウブツ Si デンシ ザイリョウ タイヨウ デンチ コウタイアツ ダイ デンリョク ソシ トウ

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 100 (57), 41-46, 2000-05-18

  東京 : 電子情報通信学会

キーワード

• 蒸着温度
• 高温処理
• 触媒作用
• ショットキー特性
• evaporation temperature
• thermal annealing
• catalytic effect
• Shottky

詳細情報

• CRID: 1520290885284004864
• NII論文ID: 110003310602
• NII論文ID: 110003199476
• NII論文ID: 110003201109
• NII書誌ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL書誌ID: 5408370
• NDL書誌ID: 5408949
• NDL書誌ID: 5408496
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I5408370
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I5408949
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I5408496
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles