高分解能角度分解光電子分光によるシリコン酸窒化膜及び高誘電率膜・シリコン界面の解析

• 尾嶋 正治

• 豊田 智史

• 奥村 務

書誌事項

タイトル別名

• コウ ブンカイノウ カクド ブンカイ コウデンシ ブンコウ ニ ヨル シリコンサン チッカ マク オヨビ コウユウデンリツ マク シリコン カイメン ノ カイセキ

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 103 (149), 31-36, 2003-06-27

  東京 : 電子情報通信学会

キーワード

• 放射光
• 界面構造
• バンドオフセット
• Si oxynitride
• high-k dielectrics
• synchrotron radiation
• photoelectron spectroscopy
• interface structures
• band offsets

詳細情報

• CRID: 1520853833362236544
• NII論文ID: 110003308379
• NII書誌ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL書誌ID: 6645881
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I6645881
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles