PLDにより製膜したHf酸化物の界面評価

• 金島 岳

• 寒川 雅之

• 池田 幸司

書誌事項

タイトル別名

• PLD ニ ヨリ セイ マク シタ Hf サンカブツ ノ カイメン ヒョウカ

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 103 (533), 51-56, 2003-12-19

  東京 : 電子情報通信学会

キーワード

• レーザアブレーション
• フォトレフレクタンス
• PR
• HfO2
• Si歪み
• high-kゲート絶縁膜
• Pulsed laser deposition
• Photoreflectance
• Si strain
• high-k gate insulator

詳細情報

• CRID: 1520853833969979136
• NII論文ID: 110003308895
• NII書誌ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL書誌ID: 6827340
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I6827340
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles