高速化量子分子動力学法の開発とシリコン系材料への応用

• 高見 誠一

• 横須賀 俊之

• 黒川 仁

書誌事項

タイトル別名

• コウソクカ リョウシ ブンシ ドウリキガクホウ ノ カイハツ ト シリコンケイ ザイリョウ エ ノ オウヨウ
• 特集 半導体加工技術とグロセスクリーン化
• トクシュウ ハンドウタイ カコウ ギジュツ ト グロセスクリーンカ

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 101 (350), 61-63, 2001-10-16

  東京 : 電子情報通信学会

キーワード

• シリコン半導体
• 薄膜成長
• 製膜種
• シミュレーション
• 電気特性
• Accelerated quantum chemical calculation
• Silicon semiconductor
• Thin-film formation
• Growth species
• Simulator
• Electronic Property

詳細情報

• CRID: 1520290883199344000
• NII論文ID: 110003310928
• NII書誌ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL書誌ID: 5976451
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I5976451
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles