リソグラフィ用 EUV(極端紫外)光源研究の現状と将来展望 4.レーザー生成プラズマ光源 4.1 レーザー生成プラズマ光源研究の現状

• 富江 敏尚

  産業技術総合研究所 次世代半導体研究センター

書誌事項

タイトル別名

• Present Status and Future of EUV (Extreme Ultra Violet) Light Source Research 4.Laser Produced Plasma Light Sources 4.1Present Status of Laser Produced Plasma EUV Sources Development
• レーザー生成プラズマ光源研究の現状
• レーザー セイセイ プラズマ コウゲン ケンキュウ ノ ゲンジョウ

抄録

The present status of the development of laser-produced plasma EUV sources throughout the world is summarized. The year 2002 will be remembered as a turning point when target material shifts from xenon to tin for high conversion efficiency. Research on the EUVL source taking place at the AIST is also briefly described.

収録刊行物

• プラズマ・核融合学会誌

  プラズマ・核融合学会誌 79 (3), 234-239, 2003

  社団法人 プラズマ・核融合学会

キーワード

• EUVL source
• laser-produced plasma
• tin
• cavity-confinement
• spectral efficiency
• plasma shield

詳細情報

• CRID: 1390282681489328768
• NII論文ID: 110003825338
• NII書誌ID: AN10401672
• DOI: 10.1585/jspf.79.234
• BIBCODE: 2003JPFR...79..234T
• COI: 1:CAS:528:DC%2BD3sXjvVGnsLY%3D
• NDL書誌ID: 6519613
• ISSN: 09187928
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I6519613
• Web Site: https://www.jstage.jst.go.jp/article/jspf/79/3/79_3_234/_pdf
• Web Site: http://dl.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/10455272
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • NDL-Digital
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可