307 イオンミキシング蒸着法を用いた高硬度(Ti,B)N薄膜の作製と特性評価(GS-4 薄板・薄膜)

• 岩崎 大

  姫工大

• 山下 正人

  姫工大

• 花木 聡

  姫工大

• 内田 仁

  姫工大

書誌事項

タイトル別名

• 307 Characterization of Hard (Ti,B)N Films Prepared by lon Mixing and Vapor Deposition Method

抄録

We prepared (Ti, B)N films by ion mixing and vapor deposition (TVD) method. A hard film was successfully obtained at the evaporation ratio B_<va>/Ti^_<va> of 0.3. The maximum hardness of the films was approximately 5000Hk, this value is comparable to the hardness of cBN which is well known as very hard material.

収録刊行物

• 関西支部講演会講演論文集

  関西支部講演会講演論文集 2004.79 (0), _3-13_-_3-14_, 2004

  一般社団法人 日本機械学会

キーワード

• TiN Films
• BN Films
• (Ti, B) N Films
• Ion Mixing and Vapor Deposition Method
• Knoop Hardness

詳細情報

• CRID: 1390282680824742272
• NII論文ID: 110004301273
• DOI: 10.1299/jsmekansai.2004.79._3-13_
• ISSN: 24242756
• Web Site: https://www.jstage.jst.go.jp/article/jsmekansai/2004.79/0/2004.79__3-13_/_pdf
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可