キャラクタプロジェクション法における描画面積の最適化による描画時間の削減  [in Japanese] A Character Size Optimization for Increasing the Throughput of Character Projection Lithography  [in Japanese]

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Author(s)

    • 高田 大河 TAKATA Taiga
    • 九州大学大学院システム情報科学研究院情報工学専攻 Department of Informatics, Gradudate School of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University
    • 中村 健太 [他] NAKAMURA Kenta
    • 九州大学大学院システム情報科学研究院情報理学専攻 Department of Computer Science and Communication Engineering, Graduate School of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University
    • 松永 裕介 MATSUNAGA Yusuke
    • 九州大学大学院システム情報科学研究院情報工学専攻 Department of Informatics, Gradudate School of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University
    • 村上 和彰 MURAKAMI Kazuaki
    • 九州大学大学院システム情報科学研究院情報理学専攻 Department of Computer Science and Communication Engineering, Graduate School of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University

Abstract

本稿では,キャラクタプロジェクション法の描画能力を高めるために,描画面積を最適する手法について議論する.キャラクタプロジェクション法は電子ビーム直描やフォトマスクの製造に応用可能な描画技術である.描画装置の減価償却の意味で,キャラクタプロジェクション法の描画時間は電子デバイスやフォトマスクの価格を決定するものであり,削減されることが望ましい.本稿では,CPマスク上に配列上に搭載されるキャラクタの大きさを最適化することによって,描画時間を最小にする手法を提案する.提案手法により,既存の手法と比べて最大72%の描画時間を削減した.

We propose a character size optimization technique to enhance the throughput of maskless lithography as well as photomask manufacture. The number of electron beam shots to draw the patterns of circuits is a dominant factor in the manufacture time and the cost for devices. Our technique is capable of drastically reducing them by optimizing the size of characters, which are the patterns to project and are placed on CP masks. Experimental results show that our technique reduced 72.0% of EB shots in the best case, comparing with the ad hoc character sizing.

Journal

  • IEICE technical report

    IEICE technical report 105(672), 13-18, 2006-03-17

    The Institute of Electronics, Information and Communication Engineers

References:  11

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    110004684252
  • NII NACSIS-CAT ID (NCID)
    AA11645397
  • Text Lang
    JPN
  • Article Type
    ART
  • ISSN
    09135685
  • NDL Article ID
    7880374
  • NDL Source Classification
    ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
  • NDL Call No.
    Z16-940
  • Data Source
    CJP  NDL  NII-ELS 
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