異常な電子キャリア生成による低抵抗ITO薄膜

• 河野 昭彦

• 羅 蘇寧

• 村上 達大

書誌事項

タイトル別名

• イジョウ ナ デンシ キャリア セイセイ ニ ヨル テイテイコウ ITO ハクマク

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 106 (5), 45-49, 2006-04

  東京 : 電子情報通信学会

キーワード

• 透明導電性酸化物薄膜
• ITO薄膜
• 電子励起プラズマスパッタリング
• スパッタ薄膜
• Transparent conductive oxide film
• ITO film
• low-pressure plasma sputtering
• Sputtering film

詳細情報

• CRID: 1520572358405226496
• NII論文ID: 110004718830
• NII論文ID: 110004719422
• NII論文ID: 110004718906
• NII書誌ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL書誌ID: 7904811
• NDL書誌ID: 7905922
• NDL書誌ID: 7905397
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I7904811
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I7905922
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I7905397
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles