D-11-129 弛緩法を用いたLSI微細形状露光パターンSEM像とCADレイアウトのパターンマッチング(D-11. 画像工学D(画像処理・計測), 情報・システム2)

• 三浦 克介

  大阪大学大学院情報科学研究科情報システム工学専攻

• 藤田 将史

  大阪大学大学院情報科学研究科情報システム工学専攻

• 中前 幸治

  大阪大学大学院情報科学研究科情報システム工学専攻

• 藤岡 弘

  大阪大学大学院情報科学研究科情報システム工学専攻

書誌事項

タイトル別名

• D-11-129 Pattern matching between an SEM exposed pattern image of LSI fine structures and CAD layout data by using the relaxation method

収録刊行物

• 電子情報通信学会総合大会講演論文集

  電子情報通信学会総合大会講演論文集 2005 (2), 129-, 2005-03-07

  一般社団法人電子情報通信学会

詳細情報

• CRID: 1571698601920013056
• NII論文ID: 110004746309
• NII書誌ID: AN10471452
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles