Cu/ZrN/SiOC/Si構造の熱的安定性と界面モフォロジーの検討

• 野矢 厚

• 佐藤 勝

• 武山 眞弓

Bibliographic Information

Other Title

• Cu ZrN SiOC Si コウゾウ ノ ネツテキ アンテイセイ ト カイメン モフォロジー ノ ケントウ

Journal

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 106 (336), 37-40, 2006-11

  東京 : 電子情報通信学会

Keywords

• 拡散バリヤ
• 界面層
• ナノクリスタル膜
• diffusion barrier
• interfacial layer
• nanocrystal film

Details

• CRID: 1520853832518326784
• NII Article ID: 110005717107
• NII Book ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL BIB ID: 8571817
• Web Site: http://id.ndl.go.jp/bib/8571817
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I8571817
• Text Lang: ja
• NDL Source Classification:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• Data Source:
  • NDL
  • CiNii Articles
  • KAKEN