非平面へのパターン投影のための相互反射の補償

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  • ヒヘイメン エノ パターン トウエイ ノ タメノ ソウゴ ハンシャ ノ ホショウ
  • A Compensation Method of Inter-reflection for Pattern Projection onto a Non-planar Surface
  • 研究論文(推薦)

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非平面に対しパターンを投影すると,相互反射の影響により正しい見え方にならない.本稿では,凹面部で生じる相互反射の影響を考慮し,投影パターンを光学的に補償する手法を提案する.ラジオシティ法を用いてスクリーンの幾何情報から相互反射の影響を予測し,これを相殺するように投影パターンを補償する.提案手法の特徴は,相互反射の逆問題を解析的に解いているため,反復計算が不要であり,高速に光学補償ができることである.実際に凹面を含むスクリーンにパターン投影を行う実験により,相互反射の影響を大きく軽減できることを確認した.

If a pattern is projected to a non-planer screen, the desired view cannot be correctly observed due to the influence of inter-reflections. This paper proposes a simple but effective technique for photometric compensation in consideration of inter-reflections on a concave surface. The compensation is accomplished by canceling inter-reflections estimated by the radiosity method. The significant advantage of the proposed method is that any iterative calculations are not necessary for the photometric compensation because it analytically solves the inverse problem of inter-reflections. Experimental results show that the influence of interreflections is effectively reduced.

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